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氧化銦錫(ITO)在薄膜狀時,為透明無色。在塊狀態(tài)時,它呈黃偏灰色。
特性
氧化銦錫主要的特性是其電學傳導和光學透明的組合。然而,薄膜沉積中需要作出妥協(xié),因為高濃度電荷載流子將會增加材料的電導率,但會降低它的透明度。
應用
氧化銦錫薄膜最通常是用電子束蒸鍍、物理氣相沉積、或者一些濺鍍沉積技術(shù)的方法沉積到表面。
氧化銦錫主要用于制作液晶顯示器、平板顯示器、等離子顯示器、觸摸屏、電子紙等應用、有機發(fā)光二極管、以及太陽能電池、和抗靜電鍍膜還有EMI屏蔽的透明傳導鍍膜。
ITO也被用于各種光學鍍膜,最值得注意的有建筑學中紅外線-反射鍍膜(熱鏡)、汽車、還有鈉蒸汽燈玻璃等。別的應用包括氣體傳感器、抗反射膜、和用于VCSEL激光器的布拉格反射器。
ITO薄膜應力規(guī)可以在高于1400 °C及嚴酷的環(huán)境中使用,例如氣體渦輪、噴氣引擎、還有火箭引擎。
氧化銦錫粉末及分散體
CN102015538A公開一種涉及表面經(jīng)改性的氫氧化銦錫的附聚物,其具有80至98.9重量%的銦、2至20重量%的錫和0.01至1重量%的碳。